清洗系統(tǒng)是利用化學和物理特性去除材料表面不需要的物質(zhì)的裝置。

用于精密儀器、半導體、顯示器等制造過程。如果清潔設(shè)備使用不當，可能會出現(xiàn)大量缺陷產(chǎn)品和產(chǎn)量。

清洗方法有超聲波清洗、噴淋清洗、刷洗、干洗、溶劑清洗等多種。就半導體制造而言，有超過500道制造工序，據(jù)說清洗工序占其中的30%～40%。

清潔設(shè)備的使用目的

具體清潔設(shè)備使用示例如下。

半導體工藝中的硅片清洗

清洗金屬過濾網(wǎng)上附著的污垢

去除切割后金屬表面附著的金屬粉末

清洗設(shè)備的選擇要考慮污垢的種類、清洗對象的大小、清洗時間、清洗精度等。清潔方法、使用的清潔劑和干燥方法也很重要。